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硅片研磨废水处理要领有哪些?

问答库 2023年02月15日 13:12 402 问答库

  硅片研磨废水处理要领有哪些?


  制造半导体前,必须将硅转换为晶圆片,晶圆生产包括:晶棒生长、晶棒裁切与检测、外径研磨、切片、圆边、表层研磨、蚀刻、去疵、抛光、清洗及检验包装工序;研磨历程之后需接纳大宗的超纯水来洗净晶圆外貌所残留的悬浮微颗粒或金属离子污染物,因而爆发CMP研磨废液及后段清洗废水。那么硅片研磨废水处理要领有哪些?下面就让亚洲城官网小编为各人详细介绍一下。


  硅片研磨废水处理要领有哪些?


  古板处理方法有诸多局限,占地大,加药多,污泥爆发量多,水质不稳定。废水处理不当或直接排放会污染情况,处理水不加以接纳将会造成水资源浪费。


  晶圆硅片研磨或切割液废水回用的处理要领属于半导体制造和工业废水处理技术。目前,膜疏散技术广泛运用于废水回用领域。基于膜的疏散性能,一般微滤和超滤作为预处理使用,反渗透和纳滤对经过预处理后的水进行越发深入的处理。


  膜的联用技术在废水回用中有轶群的处理效果,可以实现高效,高接纳率,高品质出水的“三高”需要。膜疏散技术作为新的疏散净化和浓缩要领,具有无相变、能耗低、效率高、工艺简单、操作便当和占地投资小等优点,不但可以使废水抵达排放标准,并且可以接纳部分原质料、提高水的利用率。


  以上就是亚洲城官网小编给各人介绍的具体内容了,希望能够资助到各人对上述问题有更深的认识。上述内容仅供各人参考,照旧要以实际泛起的问题对症下药才华更好的解决问题。如果各人想了解更多案例或技术方面内容,可登岸亚洲城官网官网,还可以与我们的在线客服进行交流或关注亚洲城官网民众号。

标签: 污水处理

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